沐阳研究更新后的阅读系统两个多小时才研究透，兴奋得睡不着。 喝了一杯茶，他想看看芯片制造技术的核心设备：光刻机。 目前市场上，有两种主流光刻机，一个是DUV光刻机，另一个是EUV光刻机。DUV是深紫外线（），EUV是极深紫外线（)。 从制程范围来看，DUV基本上只能做到凭借双工作台的模式做到了10n但是却无法达到10n下。 只有EUV能满足10n下的晶圆制造，并且还可以向5n3n续延伸。 这个线宽其实就是跟光的线宽有关系，比如可见光的G线，那就是436n如果用来刻蚀，线路肯定很宽。 可以简单地认为，光刻机的光系统其实就是一支画笔，不同的光代表不同粗细大小的笔芯，越细的笔（光）能够画越细越复杂的画。 &就是彩笔，EUV就是中性笔，中性笔画的线条比较细，比较好用。 这么理解，也好理解光刻机到底如何刻蚀电路图了。 当前，国外品牌光刻机主要以荷蓝ASML，岛国on三大品牌为主。 &的价格是1—3亿美金／台，DUV的价格为2000万—5000万美金／台不等。 目前先进的光刻系统就是EUV光刻机，如果沐阳打算走EUV光刻机路线，必然绕不开别人的技术专利保护范围。 因此，他只能寻找另外光种的光刻机，同时要考虑到光的分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等指标。 就说分辨率，如果制作出来的电路图模糊不清，那芯片肯定不好。 光刻机其它的指标，也可以比喻成画笔的性能就行了。 并不是说，沐阳不能搞光刻机了，只是说，再搞DUV和EUV光刻机，绕不开以上三家企业的技术专利保护范围。 所以，他只能另辟蹊径。 很久之前，沐阳就想到过电子束光刻机。 原本，再过几年，漂亮国的一个实验室研发出一套名为的光刻系统，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL（）电子束光刻方式，制造出了0.7n宽的芯片，只是没法实现批量生产，或者成本高过。 沐阳相信，如果是技术成熟的电子束光刻机，线宽比0.7n小。 他在系统商店普通货架上默念搜索“电子束光刻机”，很快，搜索出几款相关技术。 沐阳选择适合自己公司的一款技术： /> 技术参数： 1．最小线宽：小于1nbr/> 2．加速电压： /> 3．电子束直径：小于0.5nbr/> 4．套刻精度：1nan＋0.20） 5．拼接精度：1nan＋0.20） 6．加工晶圆尺寸：4—18英寸 7．描电镜分辨率：小于0.2nbr/> 主要特点： 1．采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪； 2．出色的电子束偏转控制技术； 3．采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达 /> 4．采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.002ad； 5．应用领域广泛，如 微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。 ..... 需要成就点：300点！ .... 沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。 还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。 这个EBL01号称可以制造1n下的芯片，但量产成本会比较高。 因此，当前的情况，星海集团可以从7n片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。 等竞争对手可以批量搞7n片了，星海集团再推出5n3n片。 有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28n片工艺足够，也是未来十年内的主流。 只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片。 另外，沐阳打算弄一些小于1n芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用。 接下来，沐阳确认购买EBL01技术。 十几分钟后，沐阳把EBL01技术吸收完毕。 他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家。 买了光刻机的技术，沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备。 这个芯片设计软件，他就不打算自己研发了，他在芯片软件设计这一块是弱点，靠自己研究不知道得花多长时间。 而且，目前公司形势严峻，一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了，会对星海集团搞各种限制。 沐阳现在赶时间，同时还有更多更重要的事情需要他亲自处理。 于是，他又花了400点成就点。 这一晚，沐阳就花了700点成就点，还是有些心疼。 等吸收完新技术后，沐阳实在有些发困了，回床休息。 翌日，沐阳是被宋雪露吧嗒一下脸蛋睡醒的。 “孩子他爸，生日快乐。” “谢谢，有你真好。” 沐阳睁开朦胧的双眼，揽过妻子的纤腰。 他老婆跟他同年出生，只比他小几个月。 系统8级时，商店有驻颜、延迟衰老类的医药技术，沐阳希望在二十年内研发出来，能够用在老婆身上。 “我看你挺疲惫的，昨晚几点睡的？” “好像凌晨三点多了吧。” “这么晚呀，又有什么烦恼？” “不是烦恼，就是突然想到一些灵感，就起来记录一下。“沐阳揉一揉老婆的秀发道。 “哦，现在才七点多，你继续